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黄伟哲:防晶片技术外流可修法加重刑责
http://www.CRNTT.com   2018-07-03 14:45:00


绿委黄伟哲。(中评社 倪鸿祥摄)
  中评社台北7月3日电(记者 倪鸿祥)美国《华尔街日报》报道,台湾的半导体人才被挖、晶片技术遭窃情况严重,民进党台南市长参选人“立委”黄伟哲3日上午表示,可参考其他国家,加重商业间谍罪刑罚,例如美国、欧盟等国对商业犯罪刑罚规定不比刑事犯低,动辄就是10年、8年,甚至更长刑期,台湾可以研议,否则目前只用妨害秘密或其他法条处理,刑度较轻。

  美国《华尔街日报》报道,台湾是一个拥有全球晶圆代工三分之二产能的“自治岛”,成为中国窃取技术的主要目标;去年中国对台湾的科技窃案较2013年增加一倍多,却碍于政治因素,台湾检调大多未能起诉中国公司。

  黄伟哲指出,根据美国统计,美国每年受到商业间谍损失的国家利益与商业利益,远大于军事受损,损失金额可能数以十兆、十亿或百亿在计,可说是天文数字,如果美国如果都这样,台湾当然也难以幸免。

  他指出,台湾在这部分的防范法律已经有了,只看各企业及政府部门如何执行、如何执法的问题;企业界当然要严加防范,对员工或敏感的高科技 部门、科技管制,要好好处理,政府部分对商业间谍或企业高阶敏感机密的拥有者,其出入境是否要配合企业公司做一定程度的处理,也可以思考,看有什么方式可以阻绝商业间谍将商业机密外传或携带出境的行为。 


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